聚焦【芯】湿法
2025年3月，全球产业的目光将再度聚焦上海！江苏科技有限公司核心团队携全新技术与创新设备成果，共赴这场世界级行业盛会。作为中国半导体领域的优质湿法解决方案提供者，我们将在SEMICON China 2025 （展位号：T3馆3239）呈现科研级湿法设备、企业级湿法设备、单片湿法设备等解决方案，以“硬核科技”对话行业，探索智能时代的无限可能。我们诚挚邀请广大从业者莅临指导，洽谈合作，共谋发展！
展会位置
上海新国际博览中心
展馆位置
展位位置“跨界全球，心芯相联”，这一口号不仅精准概括了SEMICON CHINA的核心愿景，也深刻体现了半导体行业追求技术创新与国际合作的广阔胸怀。自英思特半导体成立以来，我们始终秉持着探索与进取的精神，积极参与并贡献于SEMICON展会这一全球半导体行业的盛会。每一次踏入SEMICON的展场，都标志着我们向世界展示最新科技成果、深化行业交流合作的坚定步伐。
英思特半导体介绍
公司大厅，自2019年成立以来，便深耕于半导体及关联产业的湿制程设备领域，是集设计、制造、销售及优化服务为一体的综合性高新技术企业。公司总部坐落于苏州纳米城，在江苏南通设有大型工厂，并在广州和重庆设有办事处。我司凭借在半导体清洗设备方面的优势，英思特半导体已成为半导体湿制程解决方案的重要供应商。通过自主研发与技术创新，公司不仅构建了强大的知识产权体系，还与国内外多家知名院校及研究机构建立了紧密合作，共同推动半导体技术的革新与发展。
主要设备---科研级全自动湿法设备
科研级全自动湿法设备
功能：氧化物清洗、有机刻蚀、酸碱清洗、金属刻蚀等
清洗方式：化学药液浸泡、超声/
Wafer：2-8 Inch Wafer
控制系统：工控机控制
主要设备---企业级槽式湿法设备
全自动RCA清洗设备
功能：对 wafer 进行腐蚀、清洗
清洗方式：化学药液浸泡、超声/兆声清洗
Wafer：2-8 Inch Wafer
单工位刻蚀机
功能：用于刻蚀TiW和Ni金属膜层，实现电极图形化
清洗方式：化学药液刻蚀
Wafer：2-8 Inch Wafer
抛光后清洗机
功能：对 wafer 进行腐蚀、清洗
清洗方式：化学药液浸泡、超声清洗
Wafer：4-12 Inch Wafer
多功能湿法台（L型）
功能：通过湿法工艺实现晶圆匀胶、烤胶、显影定影的功能
组成：显影槽、定影槽、QDR槽、匀胶机、烤胶机
特点：匀胶机、烤胶机均为分体式
Wafer：4-12 Inch Wafer