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晶圆清洗设备制造
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  • 硅晶片的清洗技术
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  • 在含氧气体环境中利用VUV辐射的表面清洁机制
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  • 通过X射线光刻在指尖大小的芯片中产生高精度微光学元件的晶圆级制造
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  • 臭氧水的应用
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  • 湿化学工艺
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  • 锗化硅（SiGe）和硅（Si）之间的各向同性和选择性蚀刻机制
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  • 针对纳米片环栅晶体管中制造锗化硅（SiGe）和硅（Si）选择性蚀刻的研究
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